用于SEM和光学显微镜中的放大率校准或图像扭曲失真检查，不带证书的版本。标样材质为单晶硅，厚度675µm，硅晶体取向为<100>，5mmx 5mm，正方形每10µm重复一次，分界线宽约1.9µm，由电子束光刻形成。每500µm（0.5mm）有一条更宽的标记线，可用于光学显微镜的图像检测。刻蚀线条深度约为300nm。